マスク膜製品

半導体製品に欠かせないマスク膜技術加工であります

基板（ガラス材）にクロム膜を施した製品になります

今回は6インチ（□152×152）へ加工を実施しました

あらゆるデザインを実施し高精度に仕上げてます

低膨張係数ガラス（ネオガラス）へのマスク膜加工を実施しました 

【　製作工程　】

*　ガラス基盤は弊社にて調達し平面加工（0.002以内）で仕上げます

*　クロム構想膜：ガラス材　Cr700

*　レジストは標準的なPosiレジストを塗布します

*　プロセスは選択を希望しますが、デザイン次第で当社で選択する事もございます

*　寸法測定：反射光測を実施します（検査表添付します）

*　パタ－ンの有効エリアは基材端面から片辺10㎜までとします

*　コーナ－ＲはＲ0.3～0.5μmを目安とします

*　最終納品は専用ケ－スまたはお客様指定のケ－スになります